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서울소재 기업들의 기술사업화를 지원하기 위하여 서울주요대학에서 보유한 특허현황을 제공합니다.

No.	특허내용
20938	화학 기상 증착법을 통한 아나타제 이산화티타늄 나노판의 제조방법(preparation method of anatase titanium dioxide nanosheet via chemical vapor deposition) 출원번호 : 1020130003550 \| 출원일 : 2013.01.11 \| 출원인 : 고려대학교 산학협력단
20937	맥압과 맥파를 이용한 혈액순환장애 측정 시스템(blood-flow disorders measurement system using pulse waves) 출원번호 : 1020130003162 \| 출원일 : 2013.01.11 \| 출원인 : 연세대학교 원주산학협력단
20936	쯔쯔가무시 균 특이 항체를 검출하기 위한 조성물 및 키트(A Composition and a Kit for Detecting Specific Antibodies for Orientia tsutsugamushi) 출원번호 : 1020130003528 \| 출원일 : 2013.01.11 \| 출원인 : 서울대학교산학협력단
20935	발광특성을 가지는 금속플레이트의 제조방법 및 그 플레이트(Method of manufacturing metal plate with luminous property and the plate thereof) 출원번호 : 1020130002890 \| 출원일 : 2013.01.10 \| 출원인 : 서울대학교산학협력단
20934	금속 산화물 나노 구조체의 제조 방법(Method for manufacturing nano-structure) 출원번호 : 1020130002867 \| 출원일 : 2013.01.10 \| 출원인 : 경희대학교 산학협력단
20933	고분자, 그 제조방법, 이로부터 형성된 복합체, 이를 포함한 전극과 복합막 및 이를 채용한 연료전지(Polymer, preparing method thereof, composite formed thereof, electrode using the same, composite membrane using the same, and fuel cell employing the same) 출원번호 : 1020130003140 \| 출원일 : 2013.01.10 \| 출원인 : 서울대학교산학협력단\|삼성전자주식회사
20932	반도체의 잔류 응력 제거장치 및 잔류 응력 제거방법(An apparatus and method to reduce the residual stress of semiconductor) 출원번호 : 1020130003118 \| 출원일 : 2013.01.10 \| 출원인 : 한양대학교 산학협력단\|삼성전자주식회사
20931	분산 컴퓨팅 환경에서의 서비스 실행 설정 방법 및 컴퓨팅 장치(METHOD FOR SERVICE EXECUTION CONFIGURATION IN DISTRIBUTED COMPUTING ENVIRONMENT AND COMPUTING DEVICE) 출원번호 : 1020130003090 \| 출원일 : 2013.01.10 \| 출원인 : 서울대학교산학협력단\|삼성전자주식회사
20930	발광 모듈(LIGHT EMITTING MODULE) 출원번호 : 1020130003080 \| 출원일 : 2013.01.10 \| 출원인 : 고려대학교 산학협력단\|엘지이노텍 주식회사
20929	안경 및 그 제어방법(Glasses and control method thereof) 출원번호 : 1020130003066 \| 출원일 : 2013.01.10 \| 출원인 : 숭실대학교산학협력단

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